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“超分辨光刻装备项目”通过国家验收 可加工22纳米芯片

国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

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重大技术装备网 2018-12-1 8:58:34    查看全文>>

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